Vieno kristalo silicio dušo galvutė

Semicorex monokristalinis silicisdušo galvutėpasižymi išskirtiniu atsparumu korozijai, mažu plėtimosi koeficientu ir puikiu šilumos laidumu. Tvirtai prisitaikantis prie atšiaurių aukštos temperatūros, didelio korozijos ir didelio vakuumo sąlygų puslaidininkių gamyboje, jis pasižymi išskirtiniu tolerancija proceso dujoms, tokioms kaip ėsdinimo ir nusodinimo dujos. Todėl monokristalinė silicio dušo galvutė plačiai naudojama puslaidininkių valymo procesuose, oksidacijos procesuose, nusodinimo procesuose ir ėsdinimo procesuose.

„Semicorex“ naudoja pažangias paviršiaus apdorojimo technologijas, užtikrinančias, kad vieno kristalo silicio dušo galvutės paviršius būtų itin lygus ir lygus. Tuo tarpu, remiantis standartizuotu kanalo struktūros ir dujų kelio dizainu, vieno kristalo silicio dušo galvutės paviršius yra tolygiai paskirstytas daugeliu to paties skersmens porų (minimalus skersmuo gali siekti 0,2 milimetro). Vienkristalio silicio dušo galvutės porų skersmens tolerancija yra tiksliai kontroliuojama mikrometro lygyje, o vidinė porų sienelė turi būti lygi ir be įbrėžimų, užtikrinant proceso dujų paskirstymo tikslumą ir vienodumą struktūriniu ir proceso aspektais.

Semicorex teikia ekspertų pritaikymo paslaugas, kad atitiktų įvairius klientų poreikius. Atsižvelgdama į įvairius klientų poreikius, ji gali pritaikyti išvaizdos sprendimus, kad atitiktų jų reakcijos kamerų matmenis ir formą. Optimizuota konstrukcija leidžia plokštelėms visiškai ir nuosekliai kontaktuoti su proceso dujomis viso reakcijos proceso metu, užtikrinant, kad dujos tolygiai pasiskirstytų reakcijos kameroje. Tai galiausiai padidina gamybos efektyvumą ir produkto kokybę.