Silicio vaflių valtis

„Semicorex“ gali pritaikyti silicio plokštelės valties konstrukciją, įskaitant griovelio strypo formą, griovelio danties ilgį, formą, pasvirimo kampą ir bendrą plokštelių apkrovą, ir gali būti gaminama pagal klientų reikalavimus. Aukštos temperatūros silicio valtys gali veiksmingai sumažinti kontaktinius silicio plokštelių pažeidimus ir pagerinti proceso derlingumą. Aukštos temperatūros „neslidžių bokštų“ konstrukcija palaiko plokšteles tik prie atraminio danties galo. Palyginti susilicio karbidas„Silicon Wafer Boat“ sumažina šį susirūpinimą, nes silicis yra gana minkštas, palyginti su SiC. Kietumo sumažinimas leidžia sumažinti trintį ir mechaninį įtempimą, kai plokštelės liečiasi su valtele terminio ciklo metu. Dėl to dalelės susidaro rečiau, o nugarėlės įbrėžimų rizika sumažėja iki beveik nulio. Be to, sumažindama paviršiaus defektus, Silicon Wafer Boat tiesiogiai pagerina grotelių kokybę ir padidina bendrą apdorotų plokštelių kvalifikaciją. Dėl šios būklės silicio valtis yra patraukli galimybė puslaidininkiniams gaminiams, norintiems padidinti išeigą ir maksimaliai kontroliuoti kokybę.

Semicorex Silicon Wafer Boat yra novatoriškas, specialiai sukurtas plokštelių laikiklis. Jis specialiai sukurtas aukštos temperatūros krosnies apdorojimui, naudojamam puslaidininkių pramonėje, įskaitant oksidacijos ir redukcijos procesus 1200–1250 °C temperatūroje. Silicio plokštelių valtis, pasižyminti našumo pranašumais, kurių nėra silicio karbido (SiC) medžiagoje, suteikia pranašumų, susijusių su griežtais puslaidininkių gamybos procesais. Pirma, labai svarbus silicio medžiagos grynumas; iš tikrųjų,silicio medžiagapasiekia itin aukštą grynumo lygį, viršijantį 9N (99,9999999 %), taip užtikrinant, kad plokštelių apdorojimas neužterštų metalinių ar pašalinių priemaišų. Tai labai svarbu gaminant pažangiausius puslaidininkinius įrenginius, kur veikimo patikimumas ir našumas yra labai paveikti užteršimo. „Silicon Wafer Boat“ užtikrina itin švarią aplinką su aukštu grynumo lygiu, atitinkančią pažangiausius pramonės reikalavimus, susijusius su plokštelių, veikiančių labai aukšta temperatūra oksidacijos ir redukcijos apdorojimo metu, tvarkymo.

Kitas privalumassilicio medžiagayra mažesnės kietumo savybės, palyginti su SiC medžiaga. SiC strypai ar valtys yra žinomi dėl kietumo ir stiprumo, tačiau pati savybė gali sukelti sunkumų apdorojant plokšteles. Esant aukštai temperatūrai, plokštelės mikrojudės; jie šiek tiek atšoks, šiek tiek pasislinks ir kraštai deformuosis būdami valtyje. Kietesnė SiC medžiaga gali kelti didesnį pavojų susidaryti dalelėms arba subraižyti plokštelės galinę dalį, nes plokštelės ir laivo savybės sąveikauja tokiomis aukštos temperatūros apdorojimo sąlygomis.

„Silicon Wafer Boat“ sumažina šį susirūpinimą, nes silicis yra gana minkštas, palyginti su SiC. Kietumo sumažinimas leidžia sumažinti trintį ir mechaninį įtempimą, kai plokštelės liečiasi su valtele terminio ciklo metu. Dėl to dalelės susidaro rečiau, o nugarėlės įbrėžimų rizika sumažėja iki beveik nulio. Be to, sumažindama paviršiaus defektus, Silicon Wafer Boat tiesiogiai pagerina grotelių kokybę ir padidina bendrą apdorotų plokštelių kvalifikaciją. Dėl šios būklės silicio valtis yra patraukli galimybė puslaidininkiniams gaminiams, norintiems padidinti išeigą ir maksimaliai kontroliuoti kokybę.

Silicis pasižymi geru stabilumu ir mechaniniu stiprumu aukštoje temperatūroje, todėl valtis gali patikimai tarnauti kartotinių krosnies ciklų metu. Medžiaga atspari deformacijai šildymo ir vėsinimo ciklų metu, todėl išlaiko tikslią plokštelių išdėstymo ir padėties toleranciją net greitų krosnies ciklų metu. Šis terminis atsparumas užtikrina patikimus proceso rezultatus, kurie yra pakankamai nuoseklūs didelės apimties gamybai su minimaliais skirtumais tarp paleidimų. Silicon Wafer Boat yra sukonstruotas labai tiksliai, kad būtų užtikrintas nuoseklus plokštelių išdėstymas ir išdėstymas. Laivas pagamintas naudojant pažangų apdirbimą ir poliravimą, kad būtų sukurti lygūs paviršiai, artima geometrija ir griežtos tolerancijos.