Namai > Produktai > Padengtas silicio karbidu

Kinija Padengtas silicio karbidu Gamintojai, tiekėjai, gamykla

View as  
 
RTP nešiklis MOCVD epitaksiniam augimui

RTP nešiklis MOCVD epitaksiniam augimui

„Semicorex RTP Carrier“, skirtas MOCVD epitaksiniam augimui, idealiai tinka puslaidininkinių plokštelių apdorojimui, įskaitant epitaksinį augimą ir plokštelių apdorojimą. Anglies grafito susceptoriai ir kvarciniai tigliai yra apdorojami MOCVD būdu ant grafito, keramikos ir tt paviršiaus. Mūsų gaminiai turi gerą kainos pranašumą ir apima daugelį Europos ir Amerikos rinkų. Tikimės tapti jūsų ilgalaikiu partneriu Kinijoje.

Skaityti daugiauSiųsti užklausą
SiC padengtas ICP komponentas

SiC padengtas ICP komponentas

„Semicorex“ SiC padengtas ICP komponentas yra specialiai sukurtas aukštos temperatūros plokštelių apdorojimo procesams, tokiems kaip epitaksija ir MOCVD. Su puikia SiC kristalų danga, mūsų laikikliai užtikrina puikų atsparumą karščiui, tolygų šiluminį vienodumą ir patvarų cheminį atsparumą.

Skaityti daugiauSiųsti užklausą
Aukštos temperatūros SiC danga plazmos ėsdinimo kameroms

Aukštos temperatūros SiC danga plazmos ėsdinimo kameroms

Kalbant apie plokštelių apdorojimo procesus, tokius kaip epitaksija ir MOCVD, Semicorex aukštos temperatūros SiC danga plazminėms ėsdinimo kameroms yra geriausias pasirinkimas. Dėl puikios SiC kristalinės dangos mūsų laikikliai užtikrina puikų atsparumą karščiui, tolygų šiluminį vienodumą ir patvarų cheminį atsparumą.

Skaityti daugiauSiųsti užklausą
ICP plazminio ėsdinimo padėklas

ICP plazminio ėsdinimo padėklas

Semicorex ICP plazminis ėsdinimo padėklas yra sukurtas specialiai aukštos temperatūros plokštelių apdorojimo procesams, tokiems kaip epitaksija ir MOCVD. Su stabiliu atsparumu oksidacijai aukštoje temperatūroje iki 1600°C, mūsų nešikliai užtikrina tolygius šiluminius profilius, laminarinius dujų srauto modelius ir apsaugo nuo užteršimo ar priemaišų difuzijos.

Skaityti daugiauSiųsti užklausą
ICP plazminio ėsdinimo sistema

ICP plazminio ėsdinimo sistema

„Semicorex“ SiC padengtas laikiklis, skirtas ICP plazminio ėsdinimo sistemai, yra patikimas ir ekonomiškas sprendimas, skirtas aukštos temperatūros plokštelių tvarkymo procesams, tokiems kaip epitaksija ir MOCVD. Mūsų laikikliai turi puikią SiC kristalų dangą, kuri užtikrina puikų atsparumą karščiui, tolygų šiluminį vienodumą ir patvarų cheminį atsparumą.

Skaityti daugiauSiųsti užklausą
Induktyviai sujungta plazma (ICP)

Induktyviai sujungta plazma (ICP)

„Semicorex“ silicio karbidu padengtas susceptorius, skirtas induktyviai susietai plazmai (ICP), sukurtas specialiai aukštos temperatūros plokštelių apdorojimo procesams, tokiems kaip epitaksija ir MOCVD. Su stabiliu atsparumu oksidacijai aukštoje temperatūroje iki 1600°C, mūsų laikikliai užtikrina tolygius šiluminius profilius, laminarinius dujų srauto modelius ir apsaugo nuo užteršimo ar priemaišų difuzijos.

Skaityti daugiauSiųsti užklausą
„Semicorex“ jau daugelį metų gamina Padengtas silicio karbidu ir yra vienas iš profesionalių Padengtas silicio karbidu gamintojų ir tiekėjų Kinijoje. Įsigijus mūsų pažangius ir patvarius gaminius, kurie tiekiami dideliais kiekiais, garantuojame greitą pristatymą. Bėgant metams mes teikėme klientams individualų aptarnavimą. Klientai yra patenkinti mūsų gaminiais ir puikiu aptarnavimu. Nuoširdžiai tikimės tapti Jūsų patikimu ilgalaikiu verslo partneriu! Sveiki atvykę pirkti produktus iš mūsų gamyklos.
X
Naudojame slapukus siekdami pasiūlyti geresnę naršymo patirtį, analizuoti svetainės srautą ir suasmeninti turinį. Naudodamiesi šia svetaine sutinkate su mūsų slapukų naudojimu. Privatumo politika
Atmesti Priimti