Silicio ėsdinimo plokštė PSS ėsdinimo programoms

„Semicorex“ silicio ėsdinimo plokštė, skirta PSS ėsdinimo programoms, yra aukštos kokybės, ypač gryno grafito laikiklis, specialiai sukurtas epitaksiniam augimui ir plokštelių apdorojimo procesams. Mūsų laikiklis gali atlaikyti atšiaurią aplinką, aukštą temperatūrą ir atšiaurų cheminį valymą. Silicio ėsdinimo plokštė, skirta PSS ėsdinimo programoms, pasižymi puikiomis šilumos paskirstymo savybėmis, dideliu šilumos laidumu ir yra ekonomiška. Mūsų produktai yra plačiai naudojami daugelyje Europos ir Amerikos rinkų, todėl tikimės tapti jūsų ilgalaikiu partneriu Kinijoje.

Siųsti užklausą

Prekės aprašymas

„Semicorex“ silicio ėsdinimo plokštė, skirta PSS ėsdinimo programoms, sukurta reikliausioms epitaksinės įrangos programoms. Mūsų itin grynas grafito laikiklis gali atlaikyti atšiaurią aplinką, aukštą temperatūrą ir atšiaurų cheminį valymą. SiC padengtas nešiklis pasižymi puikiomis šilumos paskirstymo savybėmis, dideliu šilumos laidumu ir yra ekonomiškas.

Silicio ėsdinimo plokštės parametrai PSS ėsdinimo programoms

Pagrindinės CVD-SIC dangos specifikacijos
SiC-CVD savybės
Kristalinė struktūra	FCC β fazė
Tankis	g/cm³	3.21
Kietumas	Vickerso kietumas	2500
Grūdų dydis	μm	2~10
Cheminis grynumas	%	99.99995
Šilumos talpa	J kg-1 K-1	640
Sublimacijos temperatūra	℃	2700
Feleksualinė jėga	MPa (RT 4 taškų)	415
Youngo modulis	Gpa (4 pt lenkimas, 1300 ℃)	430
Šiluminis plėtimasis (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Šilumos laidumas	(W/mK)	300