ICP ėsdinimo plokštelių laikiklis

Semicorex ICP ėsdinimo plokštelių laikiklis yra puikus sprendimas aukštos temperatūros plokštelių apdorojimo procesams, tokiems kaip epitaksija ir MOCVD. Su stabiliu atsparumu aukštai temperatūrai iki 1600°C, mūsų laikikliai užtikrina tolygius šiluminius profilius, laminarinius dujų srauto modelius ir apsaugo nuo užteršimo ar priemaišų difuzijos.

Siųsti užklausą

Prekės aprašymas

Ieškote patikimo plokštelių laikiklių tiekėjo savo epitaksijos įrangai? Neieškokite daugiau nei Semicorex. Mūsų ICP ėsdinimo plokštelių laikiklis yra sukurtas specialiai aukštos temperatūros, atšiaurių cheminių medžiagų valymo aplinkai. Su puikia SiC kristalų danga, mūsų laikikliai užtikrina puikų atsparumą karščiui, tolygų šiluminį vienodumą ir patvarų cheminį atsparumą.
Mūsų ICP ėsdinimo plokštelių laikiklis sukurtas taip, kad būtų pasiektas geriausias laminarinio dujų srauto modelis, užtikrinantis šiluminio profilio tolygumą. Tai padeda išvengti bet kokio užteršimo ar priemaišų sklaidos ir užtikrina aukštos kokybės epitaksinį augimą ant plokštelės lusto.
Susisiekite su mumis šiandien ir sužinokite daugiau apie mūsų ICP ėsdinimo plokštelių laikiklį.

ICP ėsdinimo plokštelių laikiklio parametrai

Pagrindinės CVD-SIC dangos specifikacijos
SiC-CVD savybės
Kristalinė struktūra	FCC β fazė
Tankis	g/cm³	3.21
Kietumas	Vickerso kietumas	2500
Grūdų dydis	μm	2~10
Cheminis grynumas	%	99.99995
Šilumos talpa	J kg-1 K-1	640
Sublimacijos temperatūra	℃	2700
Feleksualinė jėga	MPa (RT 4 taškai)	415
Youngo modulis	Gpa (4 pt lenkimas, 1300 ℃)	430
Šiluminis plėtimasis (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Šilumos laidumas	(W/mK)	300