„Semicorex Wafer Loader Arm“ gebėjimas atlaikyti ekstremalias sąlygas, išlaikant išskirtinį našumą, pabrėžia jos vertę optimizuojant gamybos procesus ir siekiant aukštesnio našumo bei kokybės lygio. Integruota labai gryna aliuminio oksido keramikos medžiaga užtikrina puikų švarą, tikslumą ir ilgaamžiškumą.**
Wafer Loader Arm yra pagamintas iš didelio grynumo aliuminio oksido keramikos medžiagų, užtikrinančių išskirtinį švaros lygį, kuris yra labai svarbus puslaidininkių gamyboje. Didelis keramikos grynumas sumažina užteršimo riziką, kuri yra gyvybiškai svarbi norint išlaikyti plokštelių vientisumą tvarkant. Ši aukščiausios kokybės švara yra būtina aplinkoje, kur net mažiausios priemaišos gali turėti reikšmingą neigiamą poveikį galutinio produkto kokybei.
Viena iš išskirtinių Semicorex Wafer Loader Arm ypatybių yra preciziška gamyba, leidžianti pasiekti net ±0,001 mm leistinus nuokrypius. Šis matmenų tikslumo lygis užtikrina, kad svirtis gali tvarkyti plokšteles ypač tiksliai, todėl sumažėja netinkamo apdorojimo ar nesutapimo rizika kritiniais apdorojimo etapais. Tikslūs matmenys taip pat užtikrina suderinamumą su esama įranga, palengvindami sklandų integravimą į dabartines gamybos sąrankas.
Aliuminio oksido keramika, naudojama Wafer Loader Arm, pasižymi puikiu atsparumu aukštai temperatūrai, atlaiko iki 1600°C temperatūrą. Ši savybė yra naudinga naudojant aukštą temperatūrą, užtikrinant, kad ranka išlaikytų formą ir struktūrinį vientisumą esant šiluminiam įtempimui. Sumažėjusi deformacija esant aukštesnei temperatūrai padidina plokštelių tvarkymo patikimumą ir tikslumą net ir pačiomis sudėtingiausiomis šiluminėmis sąlygomis.
Vykdant puslaidininkinius procesus, tokius kaip valymas ir ėsdinimas, Wafer Loader Arm demonstruoja puikų atsparumą korozijai nuo įvairių cheminių skysčių. Aliuminio oksido keramikos medžiaga išlieka stabili ir išlaiko savo eksploatacines charakteristikas, kai yra veikiama agresyvios cheminės aplinkos. Šis atsparumas korozijai prailgina svirties eksploatavimo laiką, sumažindamas poreikį dažnai keisti ir prižiūrėti, taip padidindamas bendrą efektyvumą.
Wafer Loader Arm paviršiaus kokybė yra kruopščiai kontroliuojama, vidutinis šiurkštumas (Ra) yra 0,1, be metalo užteršimo ir dalelių. Ši aukšta paviršiaus kokybė užtikrina, kad plokštelės būtų tvarkomos subtiliai, išvengiant įbrėžimų, užteršimo ir kitų paviršiaus defektų, galinčių pakenkti plokštelės funkcionalumui. Nesugadinto paviršiaus palaikymas yra labai svarbus procesams, kuriems reikalingas didžiausias tikslumas ir švara.
Aliuminio oksido keramikos medžiaga pasižymi atsparumu dilimui, kuris gerokai pranoksta tradicines medžiagas, tokias kaip plienas ir chromuotas plienas. Šis išskirtinis atsparumas dilimui užtikrina, kad Wafer Loader svirtis gali atlaikyti ilgą naudojimą be reikšmingo gedimo, laikui bėgant išlaikant tikslumą ir efektyvumą. Sumažėjęs susidėvėjimas taip pat padeda sumažinti eksploatacines išlaidas, nes sumažėja poreikis dažnai keisti dalis.
Nepaisant savo tvirtumo, „Wafer Loader Arm“ yra lengvas, o tai efektyviai sumažina įrangos apkrovą. Šis svorio sumažinimas ne tik pagerina bendrą plokštelių tvarkymo sistemos efektyvumą, bet ir pailgina susijusių mašinų tarnavimo laiką. Lengvesnis svoris palengvina sklandesnius ir greitesnius judesius, padidina vaflių tvarkymo proceso našumą ir patikimumą.