Vakuuminiai griebtuvai

„Semicorex“ vakuuminiai griebtuvai yra tikslūs inžinerijos sprendimai, skirti užtikrinti saugius, stabilius ir efektyvų vaflių tvarkymą puslaidininkių gamybos procesuose. Šie vakuuminiai griebtuvai daugiausia naudojami vafliams laikyti įvairiuose perdirbimo etapuose, užtikrinant minimalų vaflių pažeidimą, maksimalų stabilumą ir padidintą proceso efektyvumą. Mūsų vakuuminiai griebtuvai yra prieinami iš įvairių bazinių medžiagų ir keraminių plokštelių, siūlančių pritaikytus sprendimus patenkinti įvairius puslaidininkių pramonės ir kitų tiksliųjų pramonės šakų poreikius.

Pagrindinės savybės ir medžiagos

„Semicorex“ siūlo daugybę bazinių medžiagų parinkčių, skirtų vakuuminiam chuckui, leidžiant pritaikyti remiantis konkrečiais taikymo reikalavimais:

Pagrindinės medžiagos:

• SUS430: Nerūdijančio plieno bazinė medžiaga, žinoma dėl savo stiprumo ir atsparumo korozijai, užtikrinant puikų mechaninį stabilumą.
• Aliuminio lydinys 6061: Lengvas, tačiau stiprus, ši aliuminio bazė pasižymi dideliu atsparumu korozijai ir yra idealus pritaikymui, kur susirūpinimas kelia svorį.
• Aliuminio oksido keramikos (99% aliuminio oksido): siūlo didelį šiluminį stabilumą ir atsparumą dilimui. Tai puikus pasirinkimas didelio tikslumo aplinkoms, kai šiluminis pasipriešinimas yra kritinis.
• Granitas: Žinomas dėl savo standumo ir puikių vibracijos-nugaros savybių, granitas siūlo puikų stabilumą ir tikslumą vaflių valdymo metu.
• Silicio karbido (sic) keramika: siūlo didelį kietumą, šilumos laidumą ir atsparumą cheminei korozijai. Tai puikiai tinka aukštos temperatūros ir agresyvioms aplinkoms.

Keraminės plokštelės:

Aliuminio oksidas (Al₂o₃): Aliuminio oksido plokštės yra žinomos dėl savo aukštų elektrinių izoliacijos savybių, atsparumo dilimui ir aukštos temperatūros stabilumui. Jie yra tinkami aplinkai, kurioje labai svarbu minimalus užterštumas ir aukštas našumas.

Silicio karbidas (SIC): SiC keraminės plokštelės suteikia išskirtinį kietumą, didelį šilumos laidumą ir stabilumą esant pakilusiam temperatūrai, todėl jos idealiai tinka pažengusiems vafliniams tvarkymo procesams gaminant puslaidininkius.

Lygumo tikslumas ir medžiagų pasirinkimas

Chucko paviršiaus lygumas yra kritinis veiksnys užtikrinant tinkamą vaflių valdymą ir optimalius proceso rezultatus. Medžiagos pasirinkimas daro įtaką lygumo tikslumui, taip pat bendroms vakuuminio chucho svoriui ir šiluminėms savybėms.

Plokščiumo tikslumas:

Aliuminio lydinys 6061: užtikrina puikų lygumą tikslumu, todėl jis yra populiarus pasirinkimas mažiau reikalaujančioms vaflių tvarkymo užduotims.

SUS430: Siūlydamas kietą mechaninį stabilumą, SUS430 yra šiek tiek mažesnis lygumo tikslumas nei aliuminio lydinys.

Aliuminio oksido keramikos (99% aliuminio oksido): siūlo geriausią lygumo tikslumą dėl jo aukšto matmens stabilumo esant aukštai temperatūrai ir mechaniniam įtempiui.

Granitas: Žinomas dėl savo stabilumo, granitas suteikia tikslų lygumą, ypač vibracijai jautrioje aplinkoje.

Silicio karbido keramika: suteikia puikų lygumo tikslumą ir idealiai tinka naudoti vaflinius vaflius aukštos temperatūroje.

Svorio aspektai

Vakuuminio chucko svoris yra dar vienas svarbus veiksnys, ypač pritaikymui, kai pagrindinis aspektas yra chucko tvarkymas ir manipuliavimas.