TaC padengta planetinė plokštė

„Semicorex TaC“ padengta planetinė plokštė yra pagrindinis MOCVD reaktorių komponentas, pasižymintis planetiniu dizainu, kuriam būdinga daugybė plokštelių kišenių, išdėstytų palei jos paviršių. Šios kišenės yra specialiai sukurtos tam, kad patikimai tilptų plokšteles bet kurio epitaksinio sluoksnio augimo fazėje, stabilizuodamos substrato plokšteles ir sumažindamos substrato judėjimą aukštesnėje proceso temperatūroje. Tiksli kišenės geometrija užtikrina nuoseklų plokštelių išdėstymą, kuris yra svarbus vienodam epitaksinių sluoksnių storiui ir substrato defektų vienodumui visoms plokštelėms, auginamoms to paties proceso metu.

Svarbus planetinės plokštės dizaino aspektas vėlgi yra suprojektuotas smulkių dujų srauto angų išsklaidymas išilgai plokštės paviršiaus. Šios skylės yra kruopščiai suprojektuotos ir strategiškai išdėstytos specialiai tam, kad būtų matuojamas pirmtakų dujų srautas reaktoriuje, todėl kiekvienoje plokštelėje užtikrinamas vienodas dujų dispersija ir tolygus nusodinimas. Bet kuriame MOCVD procese dujų dinamikos aspektai yra labai svarbūs nustatant plėvelės kokybę, storio vienodumą ir bendrą įrenginio veikimą. Optimizuotas skylės dizainas antPadengtas TaCPlanetinė plokštelė užtikrina, kad visos plokštelės būtų vienodos proceso sąlygos, o tai yra optimalus būdas pagerinti derlių ir atkuriamumą.

TheTaC (tantalo karbido) dangatoliau prailgina planetinės plokštės veikimą ir tarnavimo laiką. Tantalo karbidas yra ypač kietas, chemiškai inertiškas ir laidus šilumai, todėl yra puiki danga ekstremalioms MOCVD aplinkoms. Epitaksijos metu reaktoriaus komponentai susidurs su aukšta temperatūra, reaktyviosiomis pirmtako dujomis ir plazmos poveikiu. TaC danga yra tvirta kliūtis korozijai, oksidacijai ir dalelių susidarymui, todėl planetinės plokštės tarnavimo laikas žymiai pailgėja nei nepadengtos arba įprastai padengtos plokštės.

Dėl TaC padengtos planetinės plokštės ilgaamžiškumo ir patvarumo tai yra ekonomiškas pasirinkimas MOCVD sistemoms. Patvarus TaC sluoksnis gali atlaikyti pakartotinį terminį ciklą ir ekstremalių proceso dujų poveikį, kartu išlaikant struktūrinį vientisumą ir veikimo stabilumą veikiant ilgą laiką.