Sic vamzdžiai

„Semicorex SiC“ vamzdeliai (SiC krosnies vamzdžiai) yra aukščiausios kokybės komponentai, kurie yra labai naudojami puslaidininkių pramonėje dėl jų idealaus šiluminio stabilumo, mechaninio stiprumo ir didžiulės atsparumo agresyvioms cheminėms medžiagoms įvairiose priemonėse. „Semicorex SiC“ vamzdžiai buvo sukurti taip, kad išgyventų pačias griežčiausias sąlygas, susijusias su aukštos temperatūros apdorojimu. SiC vamzdžiai yra akivaizdžiai pageidaujama ir pranašesnė medžiaga difuzijos krosnims, LPCVD/PECVD sistemoms ir aplinkoje, naudojamoje epitaksiniam augimui, kai medžiagų užterštumas ir šiluminis diferencialas yra pagrindiniai svarstymai.

„Semicorex SiC“ vamzdžiai gaminami iš ypač aukšto grynumo sic miltelių, naudojant pažangias sukepinimo metodikas ir proceso valdymo metodus, kurie išsaugo SIC grynumą. Rezultatas yra tas, kad SIC vamzdžiai turi optimalų šilumos laidumą, mažą šiluminio išsiplėtimo charakteristikos ir turi svorį, pasiskirstantį išilgai vamzdžio ilgio, efektyviai sumažindamas šiluminį įtempį, net kai veikiami greito šiluminio ciklo. Taigi, naudojant SIC vamzdelius, užtikrinamas aukšto lygio pagarbos vykdant nuolatinius aukštos temperatūros procesus (iki 1600 ° C)-taip užtikrinant puslaidininkių gamybos procesų vienodumą, padidindamas bendrą efektyvumą pastoviose skalėse.

Pagrindinis SIC pranašumas yra tas, kad jis yra chemiškai inertiškas. SIC yra praktiškai ne pojūčiai (atitinka ASTM-G654 GP-4 klasifikavimą) ir nepralenkiama, kai kalbama apie atsparumo ėsdinančias dujas ir reaktyviosios cheminės medžiagos, naudojamos puslaidininkių vystymuis Stabilumas ir didėjantis aptarnavimo laikas, tuo pačiu sumažinant pralaidumo sulėtėjimą, susijusį su vamzdžių pokyčiais ir pakeitimais. Pagrindinė puslaidininkių gamybos pranašumai yra aiškūs; Naudojant SIC vamzdelius, bendros nuosavybės sąnaudos gali sumažėti per kelias savaites ar net mėnesius, išlaikant patikimumą, nes tai susiję su pramonės procesais.

„Semicorex Sic“ vamzdžiai yra įvairių skersmenų, ilgių ir pasirinktinių specifikacijų, kad būtų patenkinti skirtingi krosnių dizainai ir apdorojimo reikalavimai. Vidiniai paviršiai gali būti nušlifuoti, o tai pagerina švarą, sumažina dalelių susidarymą ir yra svarbi detalė ypač švaroje puslaidininkių erdvėse. Semicorex SIC vamzdžių naudojimas gali padėti sumažinti užteršimo riziką ir prisidėti prie padidėjusio vaflių derliaus, esant griežtoms nuokrypiams ir pagerinusi paviršiaus kokybę.

„Semicorex SIC“ kompetencija apima daugelį metų silicio karbido apdorojimą, daugiausia dėmesio skiriant tiksliam inžinerijos ir kokybės kontrolei, kad būtų laikomasi griežtų ir reikalaujančių puslaidininkių pramonės kokybės standartų. Mūsų vamzdžiai yra išbandomi ir patvirtinami patikrinimais, kurie yra labai svarbūs siekiant užtikrinti grynumą, tankį ir atliekant ekstremaliausią šiluminę aplinką. „Semicorex“ taip pat teikia techninę paramos ir pasirinktinių projektavimo parinktis, padedančias optimizuoti krosnių sistemą konkrečioms programoms.

Ar gamybos logikos lustai, maitinimo įtaisai ar optoelektronika, „Semicorex SIC“ vamzdžiai pateikia patikimą, patvarų parinktį aukštos temperatūros apdorojimui. Pasirinkdami „Semicorex“ jūs ne tik užtikrinate efektyvumą, bet ir ilgalaikį stabilų, efektyvų puslaidininkių gamybos procesą.