SiC Fin

Semicorex SiC Fin yra didelio našumo komponentas, pagamintas išsilicio karbido keramika, jis skirtas naudoti puslaidininkių epitaksijos ir ėsdinimo sistemose. Sukurtas kaip apskritas, disko formos gabalas su įvairiomis išgręžtomis skirtingo skersmens skylėmis, SiC Fin yra esminis komponentas srauto modeliavimo medžiagoms ir išmetamųjų dujų ar skystų nuotekų valdymui aukštoje temperatūroje arba plazmoje apdorojant. Dėl savo struktūrinių savybių, puikaus atsparumo korozijai ir didelio šiluminio stabilumo SiC Fin yra labai svarbus pažangioje puslaidininkių gamyboje.

SiC Fin pagamintas iš didelio grynumosilicio karbidasmilteliai naudojant pažangius formavimo ir sukepinimo procesus. Taigi jis turi puikų mechaninį stiprumą ir stabilumą esant aukštoms šiluminėms ir cheminėms sąlygoms. Unikalios fizinės silicio karbido savybės, tokios kaip didelis kietumas, mažas šiluminis plėtimasis ir puikus cheminis inertiškumas, leidžia Finui būti struktūriniu komponentu aukštos temperatūros plazmoje arba reaktyviųjų dujų aplinkoje, kuri būdinga EPI ir ėsdinimo procesams.

Komponento disko struktūra su tiksliai išgręžtomis skylėmis leidžia kontroliuoti dujų ir skysčių srautus proceso kamerose. Atsižvelgiant į taikymą, skylės gali būti sukonfigūruotos taip, kad būtų valdomas šalutinių produktų srautas arba drenažas, kad būtų švari ir stabili aplinka plokštelių gamybos proceso metu. Pavyzdžiui, naudojant epitaksiją, SiC Fin gali padėti nukreipti proceso dujas arba kondensato srautus, taip padidindamas plėvelės vienodumą ir sumažindamas dalelių užterštumą. ėsdinimo įrankiuose jis veiksmingas saugiai ir efektyviai pašalinant reaktyviąsias medžiagas ir skystus šalutinius produktus, apsaugančius pažeidžiamus kameros komponentus nuo cheminio skilimo.

Kiekvienas „Semicorex SiC Fin“ yra pagamintas laikantis labai griežtų leistinų nuokrypių ir poliruotas, kad būtų užtikrintas puikus paviršiaus lygumas ir matmenų tikslumas. Šis gamybos tikslumas užtikrina patikimą veikimą, kai jis yra integruotas į sudėtingas sistemas ir išlaiko nuoseklų funkcionalumą ilgą veikimo laikotarpį. SiC Fin yra suderinamas su visų konstrukcijų reaktoriais ir gali būti pagamintas pagal užsakymą pagal skersmenį, storį ir skylių modelį, kad atitiktų klientų poreikius. „Semicorex“ gali pasiūlyti pasirinktinius dizainus, optimizuojančius proceso kintamuosius, tokius kaip srauto greitis, kameros geometrija ir temperatūra.

Be savo universalaus funkcionalumo, SiC Fin pasižymi išskirtiniu patvarumu ir ilgaamžiškumu, palyginti su kitomis medžiagomis. Jis yra labai atsparus oksidacijai, plazmos erozijai ir cheminei korozijai, todėl sumažėja dalių keitimo dažnis ir sutrumpėja sistemos prastovos laikas. Be to, silicio karbido šilumos laidumas leidžia šilumą išsklaidyti, kad būtų galima valdyti įrenginio šiluminius gradientus, išvengiant nepageidaujamo deformacijos ar įtrūkimų greito temperatūros ciklo metu.

Semicorex naudoja pažangiaskeramikosapdorojimo ir CVD dengimo galimybės, kad būtų užtikrintas didžiausias gaminamo SiC Fin grynumas ir nuoseklumas. Taip pat tikrinamas kiekvieno SiC Fin tankis, mikrostruktūros vienodumas ir paviršiaus tobulumas, siekiant užtikrinti, kad jis atitiktų griežtus puslaidininkių pramonės reikalavimus. Taip gaunamas komponentas, pasižymintis mechaniniu vientisumu ir tvirtumu, užtikrinančiu stabilų ir ilgalaikį veikimą ekstremaliose aplinkose.

Semicorex SiC Fin yra naujausių medžiagų mokslo ir inžinerinių technologijų rezultatas. Tai ne tik gamina efektyvius išmetamųjų dujų ir skysčių srautus, bet ir prisideda prie visos epitaksijos ir ėsdinimo sistemų švaros ir patikimumo. Jis sujungia mechaninį stiprumą, terminį stabilumą ir ilgaamžiškumą korozijai, kad būtų užtikrintas nuoseklesnis puslaidininkių apdorojimo būdas.