Mikroporinis sic Chuckas

„Semicorex Microporous SiC Chuck“ yra moderniausias vakuuminis vaflis, skirtas tiksliai tvarkyti vaflius puslaidininkių gamybos programose. Tai veikia kaip esminė rinkimo, laikymo ir WAFT transportavimo dalis per įvairius vaflių apdorojimo etapus, įskaitant valymą, ėsdinimą, nusėdimą ir litografiją. Šis vaflis „Chuck“ garantuoja puikų sukibimą ir stabilumą, todėl vaflis bus saugiai laikomas sudėtingų operacijų metu.

„Semicorex“ mikroporinė „SiC Chuck“ turi mikroporinę paviršiaus struktūrą; Tai paruošta iš aukštos kokybės silicio karbido (SIC) ir užtikrina puikų šiluminį stabilumą, cheminį atsparumą ir ilgalaikį patvarumą. Tai įgalina vienodą siurbimo jėgą per visą vaflių paviršių, sumažinant vaflio pažeidimą, tuo pačiu užtikrinant patikimą valdymą viso perdirbimo ciklo metu. Siūlomos bazinės medžiagos yra SUS430 nerūdijantis plienas, aliuminio lydinys 6061, tankus aliuminio oksido keramikos, granito ir silicio karbido keramikos.

Savybės ir pranašumai

Mikroporinė paviršiaus struktūra: „SiC Chuck“ yra suprojektuotas su mikroporiniu paviršiumi, padidinančiu vakuuminio absorbcijos efektyvumą. Tai užtikrina, kad net subtilūs vafliai būtų saugiai laikomi vietoje, nesukeliant iškraipymų ar žalos.

Medžiagos universalumas: „Chuck“ bazinę medžiagą galima pritaikyti atsižvelgiant į konkrečius proceso poreikius:

• SUS430 Nerūdijantis plienas: siūlo gerą atsparumą korozijai už prieinamą kainą, idealiai tinkančią standartinėms reikmėms.
• Aliuminio lydinys 6061: Lengvasis su dideliu šilumos laidumu, siūlantis puikų šilumos išsklaidymą pritaikymams, kuriems reikalingas aukštos temperatūros stabilumas.
• Tanki aliuminio oksido keramika (99% AL2O3): suteikia išskirtinę elektrinę izoliaciją ir atsparumą aukštai temperatūrai, tinkančias aukšto tikslumo naudojimui gaminant puslaidininkius.
• Granitas: Žinomas dėl savo išskirtinių mechaninių savybių, „Granite“ siūlo puikų vibracijos slopinimą, todėl jis idealiai tinka valdyti vaflius, kur mechaninis stabilumas yra būtinas.
• Silicio karbido keramika: aukščiausias pasirinkimas dideliam šilumos laidumui ir atsparumui šiluminiam šokui, užtikrinant ilgalaikį našumą reikalaujančioje puslaidininkių aplinkoje.

Aukščiausio lygio tikslumas: „Chuck“ pasižymi išskirtiniu plokščiumu, būtinu vaflių tvarkymo tikslumui. Skirtingų bazinių medžiagų lygumo tikslumas skiriasi taip:

Aliuminio lydinys 6061: Geriausiai tinka pritaikymui, kuriam reikalinga vidutinio sunkumo lygumas ir lengvas.

SUS430 Nerūdijantis plienas: siūlo gerą lygumą, paprastai pakankamą daugumai puslaidininkių procesų.

Tankus aliuminio oksidas (99% AL2O3): užtikrina didžiausią lygumą, užtikrinant tikslų vaflių laikymą jautrių procesų metu.

Granito ir SiC keramika: Abi medžiagos siūlo didelį lygumą ir puikų mechaninį stabilumą, užtikrinant puikų tikslumą reikalaujant vaflių tvarkymo.

Tinkamas svoris: Chucko svoris priklauso nuo pasirinktos bazinės medžiagos:

Aliuminio lydinys 6061: lengviausia medžiaga, idealiai tinkanti procesams, kuriems reikia dažnai pakeisti ar tvarkyti.

Granitas: siūlo vidutinį svorį, užtikrinantį kietą stabilumą be per didelės masės.

Silicio karbido ir aliuminio oksido keramika: sunkiausios medžiagos, siūlančios puikų stiprumą ir tvirtumą reikalaujančioms reikmėms.

Didelis tikslumas ir stabilumas: „SiC Chuck“ užtikrina, kad vafliai būtų tvarkomi labai tikslumais, siūlant minimalų vaflių perjungimą ar deformaciją transportavimo metu per apdorojimo etapus.

Programos puslaidininkių gamintojojeg

„Microporous SiC Chuck“ pirmiausia naudojamas vaflių tvarkymo programose puslaidininkių gamybos procesuose, įskaitant:

• Vaflių valymas: efektyviai sulaiko vaflius valymo procesų metu, kad būtų užtikrintas visiškas ir tolygus valymas, nepadarydamas žalos.
• Ordinimas ir litografija: užtikrina stabilų vaflių laikymą ėsdinimo ar litografijos žingsnių metu, užtikrinant tikslumą ir tikslumą modeliuojant.
• Nusėdimas: užtikrina vaflius fizinio garų nusėdimo (PVD) arba cheminio garų nusėdimo (CVD), esminio plonųjų filmų dangų puslaidininkių gamyboje.
• Patikrinimas: įgalina saugų vaflių laikymą tikrinimo etapuose, užtikrinant, kad vaflis išliks tobulai suderintas ir stabilus didelės skiriamosios gebos vaizdavimui ar matavimams.
• Pakuotė: padeda vaflių pakavimo procesui, užtikrinant saugų vaflių valdymą prieš skaldą arba po jo.

„Semicorex Microporous SiC Chuck“ yra sukurtas atsižvelgiant į šiuolaikinės puslaidininkių gamybos poreikius. Nesvarbu, ar jums reikia lengvų medžiagų, kad būtų galima lengvai pakeisti, ar sunkesnės, tvirtesnės medžiagos, kad būtų galima tiksliai tvarkyti, mūsų chuckas gali būti pritaikytas taip, kad atitiktų jūsų tikslias specifikacijas. Turėdamas daugybę bazinių medžiagų variantų, kiekvienas siūlo unikalius naudą tam tikriems apdorojimo poreikiams, „Semicorex“ pateikia produktą, kuris sujungia tikslumą, universalumą ir ilgaamžiškumą. Be to, mikroporinis paviršius užtikrina, kad vafliai būtų saugiai ir vienodai laikomi, sumažinant žalos riziką ir užtikrinant kokybės tvarkymą kiekviename procese.

Puslaidininkių gamintojams, ieškantiems patikimų, pritaikomų ir aukštos kokybės vaflių tvarkymo sprendimų, „Semicorex Microporous SiC Chuck“ siūlo puikų tikslumo, materialinio lankstumo ir ilgalaikio našumo balansą. Naudodamiesi mūsų produktu, galite būti tikri, kad jūsų vaflių tvarkymo procesas bus efektyvus, saugus ir labai tikslus.