LPE pusmėnulio reakcijos kamera

Epitaksinis procesas vyksta LPE pusmėnulio reakcijos kameroje, kur substratai yra veikiami ekstremaliomis sąlygomis, įskaitant aukštą temperatūrą ir ėsdinančias dujas. Siekiant užtikrinti reakcijos kameros komponentų ilgaamžiškumą ir eksploatacines savybes, naudojamos cheminio garų nusodinimo (CVD) SiC dangos:

Išsamios paraiškos:

Susceptoriai ir plokštelių nešikliai:

Pagrindinis vaidmuo:

Susceptoriai ir plokštelių laikikliai yra svarbūs komponentai, kurie saugiai laiko substratus epitaksinio augimo proceso metu LPE pusmėnulio reakcijos kameroje. Jie atlieka pagrindinį vaidmenį užtikrinant, kad substratai būtų tolygiai šildomi ir veikiami reaktyviųjų dujų.

CVD SiC dangos pranašumai:

Šilumos laidumas:

SiC danga padidina susceptoriaus šilumos laidumą, užtikrindama, kad šiluma būtų tolygiai paskirstyta plokštelės paviršiuje. Šis vienodumas yra būtinas norint pasiekti nuoseklų epitaksinį augimą.

Atsparumas korozijai:

SiC danga apsaugo susceptorių nuo korozinių dujų, tokių kaip vandenilis ir chlorinti junginiai, kurie naudojami CVD procese. Ši apsauga prailgina susceptoriaus tarnavimo laiką ir palaiko epitaksinio proceso vientisumą LPE pusmėnulio reakcijos kameroje.

Reakcijos kameros sienos:

Pagrindinis vaidmuo:

Reakcijos kameros sienelėse yra reaktyvioji aplinka ir jos yra veikiamos aukštų temperatūrų ir korozinių dujų epitaksinio augimo proceso metu LPE pusmėnulio reakcijos kameroje.

CVD SiC dangos pranašumai:

Patvarumas:

LPE Halfmoon Reaction Chamber SiC danga žymiai padidina kameros sienelių ilgaamžiškumą, apsaugo jas nuo korozijos ir fizinio susidėvėjimo. Šis ilgaamžiškumas sumažina priežiūros ir keitimo dažnumą, todėl sumažėja eksploatavimo išlaidos.

Užteršimo prevencija:

Išlaikydama kameros sienelių vientisumą, SiC danga sumažina užteršimo dėl gendančių medžiagų riziką ir užtikrina švarią apdorojimo aplinką.

Pagrindiniai privalumai:

Padidėjęs derlius:

Išlaikant plokštelių struktūrinį vientisumą, LPE Halfmoon Reaction Chamber palaiko didesnį išeigą, todėl puslaidininkių gamybos procesas tampa efektyvesnis ir ekonomiškesnis.

Struktūrinis tvirtumas:

LPE pusmėnulio reakcijos kameros SiC danga žymiai padidina grafito pagrindo mechaninį stiprumą, todėl plokštelių laikikliai tampa tvirtesni ir gali atlaikyti pakartotinio terminio ciklo mechaninius įtempius.

Ilgaamžiškumas:

Padidėjęs mechaninis stiprumas prisideda prie bendro LPE pusmėnulio reakcijos kameros ilgaamžiškumo, todėl sumažėja poreikis dažnai keisti ir toliau mažėja eksploatavimo išlaidos.

Pagerinta paviršiaus kokybė:

SiC danga užtikrina lygesnį paviršių, lyginant su plika grafitu. Ši lygi apdaila sumažina dalelių susidarymą, o tai labai svarbu norint palaikyti švarią apdorojimo aplinką.

Užteršimo mažinimas:

Lygesnis paviršius sumažina plokštelės užteršimo riziką, užtikrina puslaidininkių sluoksnių grynumą ir pagerina bendrą galutinių prietaisų kokybę.

Švari apdorojimo aplinka:

„Semicorex LPE Halfmoon Reaction Chamber“ generuoja žymiai mažiau dalelių nei nepadengtas grafitas, o tai būtina norint išlaikyti aplinką be užteršimo puslaidininkių gamyboje.

Didesnės pajamingumo normos:

Sumažėjęs užterštumas kietosiomis dalelėmis sumažina defektų skaičių ir padidina išeigą, o tai yra labai svarbūs veiksniai labai konkurencingoje puslaidininkių pramonėje.