Antrosios pusės dalys apatinėms pertvaroms epitaksiniame procese

Epitaksinio proceso apatinių pertvarų antrosios pusės dalys yra išskirtinės pusiau cilindrinės formos, strategiškai suprojektuotos optimizuoti dujų srautą epitaksiniame reaktoriuje. Pagamintos iš aukštos kokybės grafito su CVD SiC dangomis, šios dalys garantuoja išskirtinį patvarumą ir šiluminį stabilumą. Sukurti taip, kad atlaikytų puslaidininkių gamybos sunkumus, jie prisideda prie jūsų įrangos ilgaamžiškumo ir patikimumo.
Komponentai yra sudėtingai sukurti taip, kad optimizuotų dujų srautą, užtikrinant efektyvų medžiagų pasiskirstymą ir nusodinimą epitaksinio augimo proceso metu. Tai lemia geresnę puslaidininkinių plokštelių sluoksnio kokybę.

Programos:

Pritaikytas puslaidininkių gamybos epitaksiniams reaktoriams.

Svarbūs komponentai, užtikrinantys tikslų ir vienodą epitaksinį augimą.

Padidinkite savo puslaidininkių gamybos galimybes naudodami mūsų antrąsias dalis, skirtas apatinėms pertvaroms epitaksiniame procese. Pasitikėkite mūsų pusiau cilindrinių komponentų, padengtų CVD SiC, kad būtų užtikrintas didesnis patvarumas, naujovėmis ir patikimumu. Išlikite puslaidininkių technologijos priešakyje naudodami šias pažangias jungtis, užtikrindami optimalų veikimą ir vienodą epitaksinio sluoksnio kokybę. Pasirinkite antrosios pusės dalis apatinėms pertvaroms epitaksiniame procese – kur tikslumas ir pažanga.