Keraminiai elektrostatiniai griebtuvai

Keraminiai elektrostatiniai griebtuvaiyra tikslūs komponentai, kurie naudoja elektrostatinį lauką, susidarantį tarp elektrodų ir plokštelių, kad suspaustų ir pritvirtintų plokšteles. Jie plačiai taikomi tokiose srityse kaip puslaidininkiai, plokščiaekraniai ekranai ir optika, ir yra pagrindinės aukščiausios klasės įrangos, pvz., PVD įrenginių, ėsdinimo mašinų ir jonų implantų, komponentai.

Palyginti su tradiciniais mechaniniais griebtuvais ir vakuuminiais griebtuvais, keraminiai elektrostatiniai griebtuvai turi daug pranašumų puslaidininkių gamybos srityje. Šis keraminis elektrostatinis griebtuvas naudoja statinę elektrą, kad išlygintų ir tolygiai išlaikytų plokšteles ant paviršiaus. Ši vienoda adsorbcijos jėga gali išlaikyti adsorbuotą objektą palyginti plokščią, vengiantvaflįdeformacija arba deformacija, kurią gali sukelti tradiciniai mechaniniai griebtuvai arbavakuuminiai griebtuvaiir užtikrinti, kad plokštelė išlaikytų apdorojimo tikslumą, tinkamą didelio tikslumo puslaidininkių procesams.

Kai kurie keraminiai elektrostatiniai griebtuvai turi integruotas šildymo funkcijas, kurios gali tiksliai valdyti plokštelių temperatūrą per atbulinės eigos dujas arba vidinius šildymo elektrodus, prisitaikyti prie griežtų skirtingų procesų temperatūros reikalavimų ir pagerinti apdorojimo stabilumą.

Skirtingai nuo mechaninių griebtuvų, keraminiai elektrostatiniai griebtuvai sumažina mechanines judančias dalis, sumažina kietųjų dalelių teršalų poveikį plokštelių kokybei, efektyviai apsaugo plokštelės paviršiaus švarą ir pagerina produkto išeigą.

Keraminiai elektrostatiniai griebtuvai siūlo platų suderinamumą. Juose gali būti įvairių dydžių ir medžiagų, įskaitant silicį, galio arsenidą ir silicio karbidą, plokšteles, atitinkančias įvairius puslaidininkių gamybos poreikius.

Jie gali stabiliai veikti didelio vakuumo aplinkoje, pvz., jonų implantavimo ir CVD, įveikdami tradicinių vakuuminių griebtuvų, kurie negali sugerti plokštelių vakuuminėje aplinkoje, apribojimus ir puikiai atitinka jonų implantavimo, cheminio nusodinimo iš garų nusodinimo (CVD) ir kitų puslaidininkių gamybos procesų reikalavimus.