8 colių vaflinių žiedų žiedai

„Semicorex“ 8 colių vaflinių žiedų žiedai yra pažangiausi puslaidininkių apdorojimo aparatūra, skirta saugiai saugiai pritvirtinti ir palaikyti silicio vaflius per svarbius šilumos, ėsdinimo ir nusodinimo procesus. Pagamintas iš aukštos kokybės grafito su tankiuSilicio karbido danga (SIC)Siekiant papildomo stiprumo, vaflių laikiklio žiedas suteikia puikų šiluminį stabilumą, cheminį atsparumą ir mechaninį stiprumą, todėl jis idealiai tinka naudoti aukštos temperatūros ir ėsdinančiose aplinkose, tokiose kaip CVD (cheminis garų nusėdimas), PECVD ir epitaksijos sistemose.

Pagrindinės savybės:

Medžiagos kompozicija:

Substrato medžiaga yraAukšto grynumo grafitas, kuris pasirinktas dideliam šilumos laidumui ir struktūriniam homogeniškumui. Didelis tankis ir uniformaSilicio karbido (sic) plėvelės dangayra naudojamas ant paviršiaus, pasižymintis dideliu atsparumu oksidacijai ir cheminiam priepuoliui net esant aukštesnei temperatūrai, viršijančiai 1000 ° C. Mišinyje yra ilgos trukmės ir minimalios vaflių užteršimo rizikos galiojimo laikas.

Saugus vaflių padėties nustatymas

Sukurtas ypač 8 colių (200 mm) vafliams, vaflių žiedas turi tikslus nuokrypis ir optimaliai suprojektuota vidinė geometrija, kad būtų galima saugiai sugriebti vaflį. Žiedas išlieka stabilus šiluminio ciklo ir dujų srauto metu, sumažinant mikro judėjimą, kuris gali sukelti dalelių susidarymą ar vaflių lūžimą.

Šiluminis vienodumas:

Grafito substrato ir SiC dangos stabilumo šilumos laidumas užtikrina pastovų šilumos perdavimą per vaflinio paviršiaus paviršių. Tai lemia nuoseklius proceso rezultatus, sumažėjusį šiluminį įtempį ir geresnį prietaiso išeigą.

Cheminės ir plazmos atsparumas:

SiC paviršius apsaugo grafito šerdį nuo atšiaurių proceso plazmų ir dujų, siūlydamas atsparumą pakartotiniams proceso ciklams. Cheminis inertiškumas yra ypač naudingas ėsdinančioje halogene turinčioje ėstininkų ar reaktyviose dujų aplinkoje.

Galima pritaikyti:

8 colių vaflinių žiedų žiedai gali būti pritaikyti pagal užsakymą, kad atitiktų konkrečias įrangos ar proceso reikalavimus, t. Y. „Edge“ palaikymo projektavimo variantus, laiko tarpsnių vietą ir montavimo konfigūraciją. Mūsų dizaineriai dirba su originalios įrangos gamintojais ir FAB, kad užtikrintų aukščiausią įmanomą kiekvieno naudojimo našumą.

Programos:

• LPCVD / PECVD / APCVD
• Epitaksinio augimo procesai
• Difuzijos krosnys
• Aukštos temperatūros atkaitinimas
• Kitos puslaidininkinės šiluminio apdorojimo sistemos

Kiekvieni 8 colių vaflinių žiedų žiedai yra griežtai tikrinami, pavyzdžiui, matmenų tikslumo tikrinimas, dangos sukibimo testas ir šiluminės dviračių kvalifikacija. Mūsų pažangi gamybos technologija užtikrina vienodą SiC dangos storį ir geriausią paviršiaus apdailą, kad būtų patenkinti dideli puslaidininkių pramonės reikalavimai.

„Semicorex“ 8 colių vaflinių žiedų žiedai (SIC dengtas grafitas) yra svarbi naujos kartos puslaidininkių gamybos įranga, užtikrinanti mechaninį tikslumą, medžiagų patvarumą ir cheminį stabilumą. Nuo proceso įrangos atnaujinimo iki naujos kartos vaflių platformų statybos, šis produktas siūlo patikimumą ir našumą, reikalingą šiandieninei gamybos aplinkai įgalinti.