PBN TIKSLAI

„Semicorex“ pirolitinis boro nitridų PBN tiriuose yra tikslūs inžinerijos komponentai, skirti patenkinti griežtus aukštos temperatūros ir ypačpos procesų reikalavimus tokiose pramonės šakose kaip puslaidininkių gamyba, krištolo augimas ir vakuuminiai. Pagaminta cheminio garų nusėdimo (CVD) procesu, PBN tiriamieji siūlo puikų grynumą, išskirtinį šiluminį stabilumą ir išskirtinį cheminį inertiškumą, todėl jie yra pasirinktos medžiagos pažengusiųjų medžiagų inžinerijoje.

Kadangi „Boron Nitride“ turi šiluminio išsiplėtimo koeficientą, panašų į kvarco, tačiau jo šiluminis laidumas yra 10 kartų didesnis nei pastarojo, jis turi puikų šiluminio smūgio atsparumą, kuris gali sumažinti įtrūkimo riziką dėl greitų temperatūros pokyčių ir kelis kartus virimo daktaras kelis kartus 20 ~ 1200 ℃ ℃ be problemų. Be to, boro nitridas nereaguoja su rūgštimis, šarmais, stiklu ir dauguma metalų, ir turi mažą mechaninį stiprumą, tik šiek tiek aukštesnį nei grafitas, tačiau jis nėra minkštas esant apkrovai aukštoje temperatūroje ir gali būti apdorojama bendromis metalo perdirbimo mašinomis. Todėl jis iš tikrųjų tinka naudoti kaip tiglis, indas, skysto metalo tiekimo vamzdis ir pelėsiai plieniniams liejimui tirpimui ir metalams.

Paprastai jis gaminamas cheminiu garų nusėdimu, naudojant boro turinčias dujas (BCL3 arba B2H6) kaip žaliavą, tačiau kadangi B2H6 yra labai toksiškas, šiuo metu BCL3 naudojamas kaip žaliava. Boro turinčios dujos patiria pirolizę (1500 ~ 1800 ℃) ir reaguoja su NH3 aukštos temperatūros reakcijos kameroje, kad sudarytų kietą boro nitridą. Kadangi pirolizė atsiranda reakcijos metu, ji taip pat vadinamaPirolitinis boro nitridastiglis (paprastai žinomas kaip PBN tiriamieji).

Medžiagos augimo procesas yra panašus į „krintantį sniegą“, tai yra, šešiakampės BN snaigės, užaugintos reakcijoje, nuolat kaupiami ant šildomo grafito substrato (šerdies pelėsio). Laikui bėgant, kaupimosi sluoksnis sutirštėja, sudarydamas PBN apvalkalą. Smulkinimas yra nepriklausomas, gryna PBN komponentas, o PBN danga paliekama ant jos. Kadangi PBN tiriams nereikia pereiti tradicinio karšto spaudimo sukepinimo proceso ir nereikia pridėti jokio sukepinimo agento, jis turi labai didelį grynumą (daugiau nei 99,99%), o veikimo temperatūra vakuume yra net 1800 laipsnių, o veikimo temperatūra, esant atmosferos apsaugai, gali pasiekti 2100 ° C (paprastai nitrogenai). Jis dažniausiai naudojamas išgarinant/molekulinės pluošto epitaksijos (MBE)/GaAs kristalų augimą ir kitus tikslus.