Pramonės naujienos

Didelis SiC dengtų grafito susceptorių rinkos augimas

MOCVD yra pagrindinė įranga

Lėšos puslaidininkių projektams

Kiekviena šalis žino lustų svarbą ir dabar spartina savo lustų gamybos tiekimo grandinės ekosistemos kūrimą, kad išvengtų kitos lustų trūkumo problemos. Tačiau pažangios liejyklos be naujos kartos lustų dizainerių būtų tokios pat kaip „Fabs be lustų“.

TSMC: 2 nm proceso rizikos bandomoji gamyba kitais metais

Savo naujai paskelbtoje metinėje ataskaitoje TSMC pirmininkas Deyin Liu ir generalinis direktorius Chieh-Jia Wei atskleidė pažangą, susijusią su 2 nm procesu.

Epitaksinių sluoksnių taikymo scenarijai

Žinome, kad ant kai kurių plokštelių pagrindų, skirtų prietaisų gamybai, reikia statyti papildomus epitaksinius sluoksnius, paprastai LED šviesą spinduliuojančius įrenginius, kuriems reikia GaAs epitaksinių sluoksnių ant silicio substratų; SiC epitaksiniai sluoksniai auginami ant laidžių SiC substra......

CVD krosnies aptarimas