CVD-SiC dušo galvutė

Semicorex CVD-SiC dušo galvutė užtikrina ilgaamžiškumą, puikų šilumos valdymą ir atsparumą cheminiam skilimui, todėl yra tinkamas pasirinkimas reikliems CVD procesams puslaidininkių pramonėje. Semicorex yra įsipareigojusi teikti kokybiškus produktus konkurencingomis kainomis, tikimės tapti jūsų ilgalaikiu partneriu Kinijoje.

Siųsti užklausą

Prekės aprašymas

Kalbant apie CVD dušo galvutę, CVD-SiC dušo galvutė paprastai suprojektuota taip, kad CVD proceso metu tolygiai paskirstytų pirmtakų dujas pagrindo paviršiuje. Dušo galvutė paprastai yra virš pagrindo, o pirmtakų dujos teka per mažas skylutes arba purkštukus ant jos paviršiaus.

Dušo galvutėje naudojama CVD-SiC medžiaga turi keletą privalumų. Didelis šilumos laidumas padeda išsklaidyti CVD proceso metu susidariusią šilumą ir užtikrina tolygų temperatūros pasiskirstymą ant pagrindo. Be to, SiC cheminis stabilumas leidžia jam atlaikyti korozines dujas ir atšiaurią aplinką, dažniausiai pasitaikančią CVD procesuose.

CVD-SiC dušo galvutės konstrukcija gali skirtis priklausomai nuo konkrečios CVD sistemos ir proceso reikalavimų. Tačiau paprastai jį sudaro plokštės arba disko formos komponentas su daugybe tiksliai išgręžtų skylių arba plyšių. Skylės raštas ir geometrija yra kruopščiai suprojektuoti, kad būtų užtikrintas vienodas dujų pasiskirstymas ir srauto greitis per pagrindo paviršių.