- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Pramonės naujienos
Epitaksiniai sluoksniai: pažangių puslaidininkinių įrenginių pagrindas
Puslaidininkių pramonėje epitaksiniai sluoksniai atlieka lemiamą vaidmenį, sudarydami specifines vieno kristalo plonas plėveles ant plokštelės pagrindo, bendrai žinomas kaip epitaksinės plokštelės. Visų pirma, silicio karbido (SiC) epitaksiniai sluoksniai, auginami ant laidžių SiC substratų, gamina ......
Skaityti daugiau
Esminis epitaksinių sluoksnių vaidmuo puslaidininkiniuose įrenginiuose
Epitaksinis augimas reiškia kristalografiškai gerai sutvarkyto monokristalinio sluoksnio auginimą ant substrato. Paprastai tariant, epitaksinis augimas apima kristalinio sluoksnio auginimą ant vieno kristalo substrato, o užaugęs sluoksnis turi tą pačią kristalografinę orientaciją kaip ir pradinis su......
Skaityti daugiau
Silicio karbido (SiC) maitinimo įrenginių rinkos banga ir perspektyvos
Pasaulyje palaipsniui didėjant elektromobilių pripažinimui, ateinantį dešimtmetį silicio karbidas (SiC) susidurs su naujomis augimo galimybėmis. Numatoma, kad galios puslaidininkių gamintojai ir automobilių pramonės operatoriai aktyviau dalyvaus kuriant šio sektoriaus vertės grandinę.
Skaityti daugiau
SiC pranašumai EV pramonėje
Kadangi SiC yra plataus dažnio juostos (WBG) puslaidininkinė medžiaga, didesnis energijos skirtumas suteikia jam geresnes šilumines ir elektronines savybes, palyginti su tradiciniu Si. Ši funkcija leidžia maitinimo įtaisams veikti esant aukštesnei temperatūrai, dažniui ir įtampai.
Skaityti daugiau
