TaC dengimas CVD metodu

Tantalo karbido danga yra svarbi didelio stiprumo, atspari korozijai ir chemiškai stabili aukštoje temperatūroje konstrukcinė medžiaga, kurios lydymosi temperatūra siekia iki 4273 °C, viena iš kelių junginių, pasižyminčių aukščiausiu atsparumu temperatūrai. Jis pasižymi puikiomis mechaninėmis savybėmis aukštoje temperatūroje, atsparumas didelio greičio oro srauto šveitimui, atsparumas abliacijai ir geras cheminis bei mechaninis suderinamumas su grafitu ir anglies/anglies kompozitais. Todėl GaN šviesos diodų ir SiC maitinimo įrenginių, tokių kaip MOCVD, epitaksiniame procese TaC danga turi puikų atsparumą rūgštims ir šarmams H2, HCl, NH3, o tai gali visiškai apsaugoti grafito substrato medžiagą ir išvalyti augimo aplinką.

TaC danga išlieka stabili aukštesnėje nei 2000 °C temperatūroje, o SiC danga pradeda irti 1200-1400 °C temperatūroje, o tai taip pat labai pagerins grafito pagrindo vientisumą. Tantalo karbido dangos šiuo metu ruošiamos ant grafito pagrindo daugiausia naudojant CVD, o TaC dangų gamybos pajėgumai bus toliau didinami, kad būtų patenkinti SiC maitinimo įrenginių ir GaNLED epitaksinių įrenginių paklausa.

Cheminės reakcijos sistema, naudojama tantalo karbido dangoms nusodinti ant anglies medžiagų cheminiu garų nusodinimu (CVD), yra TaCl5, C3H6, H2 ir Ar, kur Ar naudojamas kaip skiediklis ir pernešančios dujos.

Tantalo karbido dangos atlieka pagrindinį vaidmenį GaN šviesos diodų ir SiC maitinimo įrenginių, naudojančių MOCVD, epitaksiniame procese. Pažangios medžiagos apsaugo gyvybiškai svarbius komponentus, užtikrindamos jų ilgaamžiškumą ir veikimą atšiauriomis sąlygomis, susijusiomis su aukštos temperatūros puslaidininkių gamyba.

Kadangi SiC maitinimo įrenginių ir GaN šviesos diodų paklausa ir toliau didėja, tantalo karbido dangų gamybos pajėgumai turėtų plėstis. Gamintojai yra pasirengę patenkinti augančius šių pramonės šakų reikalavimus, palengvindami aukštos temperatūros technologijų evoliuciją.

Apibendrinant,tantalo karbido dangosyra neįtikėtinas technologinis šuolis užtikrinant medžiagų ilgaamžiškumą ir patikimumą aukštos temperatūros aplinkoje. Kadangi jos ir toliau daro revoliuciją puslaidininkių ir galios elektronikos sektoriuose, šios dangos pabrėžia jų, kaip svarbiausio šiuolaikinių aukštųjų technologijų pažangos, elemento statusą.