Silicio karbido plokštelių epitaksijos technologija

Silicio karbidasPaprastai naudojamas PVT metodas, kurio temperatūra yra aukštesnė nei 2000 laipsnių, ilgas apdorojimo ciklas ir mažas našumas, todėl silicio karbido substratų kaina yra labai didelė. Silicio karbido epitaksinis procesas iš esmės yra toks pat kaip ir silicio, išskyrus temperatūros dizainą ir įrangos konstrukcinį dizainą. Kalbant apie prietaiso paruošimą, dėl medžiagos ypatumų įrenginio procesas skiriasi nuo silicio, nes jame naudojami aukštos temperatūros procesai, įskaitant aukštos temperatūros jonų implantavimą, aukštos temperatūros oksidaciją ir aukštos temperatūros atkaitinimo procesus.

Jei norite maksimaliai išnaudoti savybesSilicio karbidaspats idealiausias sprendimas yra auginti epitaksinį sluoksnį ant silicio karbido monokristalinio substrato. Silicio karbido epitaksinė plokštelė reiškia silicio karbido plokštelę, ant kurios ant silicio karbido pagrindo auginama plona monokristalinė plėvelė (epitaksinis sluoksnis) su tam tikrais reikalavimais ir toks pat kristalas kaip substratas.

Pagrindinės įrangos rinkoje yra keturios pagrindinės įmonėsSilicio karbido epitaksinės medžiagos:

[1]AikstronasVokietijoje: pasižymi gana dideliais gamybos pajėgumais;

[2]LPEItalijoje, kuri yra vieno lusto mikrokompiuteris su labai dideliu augimo tempu;

[3]TELirNuflareJaponijoje, kurios įranga yra labai brangi, ir, antra, dviguba ertmė, kuri turi tam tikrą poveikį gamybos didinimui. Tarp jų „Nuflare“ yra labai išskirtinis pastaraisiais metais išleistas įrenginys. Jis gali suktis dideliu greičiu, iki 1000 apsisukimų per minutę, o tai labai naudinga epitaksijos vienodumui. Tuo pačiu metu jo oro srauto kryptis skiriasi nuo kitos įrangos, kuri yra vertikaliai žemyn, todėl galima išvengti kai kurių dalelių susidarymo ir sumažinti tikimybę, kad ant plokštelės lašės.

Terminalo taikymo sluoksnio požiūriu, silicio karbido medžiagos gali būti plačiai pritaikytos greitųjų geležinkelių, automobilių elektronikos, išmaniųjų tinklų, fotovoltinių keitiklių, pramoninių elektromechaninių, duomenų centruose, buitinės technikos, buitinės elektronikos, 5G ryšio, kitose kartos ekranas ir kitose srityse, o rinkos potencialas yra didžiulis.

Semicorex siūlo aukštos kokybėsCVD SiC dangos dalysSiC epitaksiniam augimui. Jei turite kokių nors klausimų ar reikia papildomos informacijos, nedvejodami susisiekite su mumis.

Telefonas pasiteirauti # +86-13567891907

paštas: sales@semicorex.com