Aukštos klasės elektrostatinio griebtuvo paviršiaus apdorojimas

Theelektrostatinis griebtuvasatlieka daugybę funkcijų, tokių kaip vienodas elektrostatinis iškrovimas, šilumos laidumas ir plokštelių adsorbcija bei fiksavimas puslaidininkių gamybos srityje. Viena iš pagrindinių ESC funkcijų yra stabiliai adsorbuoti plokšteles esant ekstremalioms darbo sąlygoms, tokioms kaip didelis vakuumas, stipri plazma ir platus temperatūros diapazonas.

Jų veikimą iš tikrųjų lemia ne išorinė struktūra ar pagrindinės medžiagos formulė, o paviršiaus apdorojimo procesas. Be profesionalaus paviršiaus apdorojimo, eksploatacijos metu susidurs su šiomis problemomis:

1. Plazmos erozija ir metalo jonų užterštumas

Neapsaugoti keraminiai paviršiai yra pažeidžiami plazmos erozijos ėsdinimo arba CVD proceso metu. Dėl tokio tipo erozijos gali tiesiogiai išsiskirti metalo jonai arba išsiskirti keramikos dalelės ir taip užteršti plokštelę.

2. Netolygus šilumos laidumas ir deformacija

Šiurkštus paviršius arba netinkamas apdorojimas lemia netolygų kontaktą tarp plokštelės ir plokštelėsESCtrukdo šilumos laidumui ir daro įtaką CD vienodumui.

3. Nestabili elektrostatinė adsorbcija

Netikslus elektrostatinio griebtuvo paviršiaus izoliacijos charakteristikų arba laidumo valdymas gali lengvai sukelti nepakankamą adsorbcijos jėgą arba per didelę adsorbciją, o tai galiausiai turi tiesioginės įtakos plokštelių apdorojimo išeigai.

Aukštos klasės ESC paviršius dažnai turi sudėtinės daugiasluoksnės struktūros dizainą, tiksliai reguliuojant funkcines sritis per dangas, kad būtų pasiekta tikrai aukštos kokybės integracija.

Įprastos aukščiausios klasės ESC paviršiaus apdorojimo technologijos:

1. Fluoropolimerinės nelipnios dangos (pvz., PTFE ir PFA)

Tokia danga ypač tinka žemos temperatūros proceso aplinkai dėl mažos paviršiaus laisvosios energijos, kuri veiksmingai apsaugo nuo fotorezisto likučių adsorbcijos.

2. Diamond-Like Carbon (DLC) dangos

Dėl didelio kietumo, atsparumo plazmai ir mažo trinties koeficiento jie yra tinkami antierozijai ir dalelių atsiskyrimui ėsdinimo įrangoje.

3. PVD laidžios keraminės plėvelės (pvz., CrSiN ir TiN)

Tokio tipo danga gali sukurti stabilų laidų kelią tam tikroje srityje ir taip veiksmingai išvengti vietinio krūvio kaupimosi problemos, tiksliai kontroliuojant vienodą paviršiaus krūvių iškrovimą.

4. Kompozitinės šilumai laidžios dangos (pvz., deimantų milteliai ir hibridinė fluoropolimero danga)

Tokios dangos nelipnios savybės derinamos su šilumos laidumu, o jos bendras veikimas gali tiksliai atitikti didelio tikslumo šiluminės kontrolės ESC taikymo reikalavimus.